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楽成インテリジェンステクノロジー(蘇州)株式会社

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レーザーエッチング装置

超微細 5μm レーザーエッチング - 半導体および FPC 向けのサブミクロン精度。 2000mm/s の高速処理 - 化学エッチングに比べて 4 倍高速、無駄ゼロ。 200 種類以上の材料との互換性 - ガラスからチタン合金まで非接触。 インテリジェント ヒューマンマシンインターフェース 制御 - オートフォーカスと キャド 統合、ISO 認定。
  • Le Cheng
  • 上海
  • 3ヶ月
  • 年内に50セット

構造上の特徴

当社のレーザー エッチング システムは最先端のエンジニアリングを統合し、比類のないパフォーマンスを実現します。

  1. 超安定レーザー ソース: 調整可能なパルス持続時間 (ns/追伸/フェス)、波長オプション (355nm、532nm、1064nm)、最大 50W のピーク電力を備えたファイバー/紫外線/ピコ秒レーザー。

  2. 高精度モーション システム: ±1μm の位置決め精度を備えたエアベアリング花崗岩ステージとガルバノメータ スキャン (7mm²~300mm² 視野角) を組み合わせて動的パターンを作成します。

  3. インテリジェント コントロール スイート:

    • リアルタイムZ軸オートフォーカス(解像度:0.1μm)

    • ±5μmのオーバーレイ精度を実現するCCDビジョンアライメント

    • DXF、ガーバー、BMP 形式をサポートする独自のソフトウェアを搭載した ヒューマンマシンインターフェース

  4. 多層環境制御:

    • クラス1000クリーンルーム対応エンクロージャ

    • アクティブな温度湿度調節(±0.5°C)

    • HEPAフィルターを備えた統合型排気装置

  5. モジュラー アップグレード パス: オプションの 3 軸回転ステージ、インサイチュー プロファイロメトリー、またはマルチレーザー ハイブリッド構成。

  6. Laser Etching Equipment​


技術的な利点

コアテクノロジーの優位性で製造業に革命を起こしましょう。

  • サブミクロン精度: 回折限界ビーム成形により、5~20μm の特徴サイズ (ラ < 0.2μm) を実現します。

  • ゼロ接触処理: 脆性材料 (SiC、ガラスなど) のツールの摩耗と機械的ストレスを排除します。

  • 適応型エネルギー制御: パルスごとの電力変調 (0.1% ステップで 1~100%) により、多層構造 (伊藤/農業/ペット など) の選択的アブレーションが可能になります。

  • 速度と効率: 50g の加速度で 2000 んん/s のスキャン速度。化学エッチングの 4 倍の速度。

  • 環境に配慮した操作: 競合他社に比べてエネルギー消費量が 30% 削減され、有毒なエッチング液や廃水は発生しません。

precision laser etching

代表的な用途

業界全体にわたるイノベーションを促進:

セクタユースケース主なメリット
半導体ウェーハダイシング、ICトリミング、パッケージマーキングカーフ幅<10μm、マイクロクラックゼロ
FPD/導かれたFPCパターニング、OLED封止材の除去、タッチセンサーエッチング選択的アブレーション、収率99.9%
太陽PERCセルの穴あけ(10~20μmの穴)、薄膜スクライビング500穴/秒、位置精度±2μm
医療機器ステントテクスチャリング、インプラントマイクログルービング、ラボオンチップチャネル製造生体適合性表面改質
高度な研究開発2D材料処理、メタサーフェス作成、量子デバイスのプロトタイピングナノ秒熱イメージング


仕様は参考値です - すべての機器はお客様のニーズに合わせて完全にカスタマイズ可能です!



  • ロクセン と提携した場合、設備の発注から正式な生産までどのくらいの時間がかかりますか?

    全体的なスケジュールは、機器の仕様と生産ラインの規模によって異なります。スタンドアロン機器の場合、標準モデルの製造サイクルは45日で、総工期(出荷および設置を含む)は約60日です。カスタム機器の場合は、技術要件に応じてさらに30日かかります。 完全なラインソリューションについては、以下をご覧ください。 • 100MWレベルの生産ラインでは、計画、機器の製造、設置、試運転に約4か月かかります。 • GWレベルの生産ラインには約8ヶ月かかります 専任のマネージャーが円滑な連携を確保し、詳細なプロジェクトスケジュールを提供します。例:お客様の1GWペロブスカイト生産ラインは、機器製造と施設建設を並行して行うことで、予定より15日早く完成しました。
  • Locsenはペロブスカイトスタートアップ企業に適した設備とパートナーシップソリューションを提供していますか?

    ロクセン は、ペロブスカイトの新興企業向けに特別に設計された「段階的パートナーシップ プログラム」を提供しています。 初期の研究開発段階では、技術検証と製品の反復を容易にするために、必須のプロセス パッケージがバンドルされたコンパクトなパイロット規模の機器 (例: 10MW レーザー スクライビング システム) を提供します。 スケールアップ段階では、スタートアップはアップグレード特典を受けることができます。 • パイロット機器のコアモジュールは、生産ラインの機械に価値を減額して下取りすることができます。 • プロセス開発サポートや実験データの共有を含むオプションの技術協力 このプログラムにより、複数のスタートアップ企業が初期段階の投資リスクを軽減しながら、研究室からパイロット生産へとスムーズに移行できるようになりました。
  • Locsen社の装置は、さまざまなサイズのペロブスカイト太陽電池に対応できますか?サポートされる最大寸法はどれくらいですか?

    Locsen 社のレーザー機器は、サイズ互換性に優れており、10cm×10cm から 2.4m×1.2m までの範囲のペロブスカイト太陽電池を加工できます。 特大サイズの細胞処理(例:12m×2.4mの硬質基板)向けには、精度とスループットの両方を確保するために、マルチレーザーヘッド同期機能を備えたカスタマイズされたガントリー型レーザーシステムを提供しています。 • 実証済みの性能: 業界をリードするスクライビング精度 (±15μm) と均一性 (>98%) で 1.2m×0.6m のセル処理に成功 • モジュラー設計:交換可能な光学モジュールは、さまざまな厚さ(0.1〜6mm)に適応します。 • スマートキャリブレーション: AIを活用したリアルタイムビームアライメントにより基板の反りを補正
  • ロクセン はペロブスカイト太陽電池のすべての主要な製造段階に合わせてカスタマイズされたレーザー ソリューションを提供していますか?

    はい、ロクセン はペロブスカイト太陽電池の生産チェーン全体をカバーする包括的なレーザー加工ソリューションを提供しています。 P0レーザーマーキング:フィルム堆積後の細胞識別用 P1/P2/P3レーザースクライビング:精密パターン形成 • 透明導電層(P1) • ペロブスカイト活性層(P2) • 背面電極(P3) P4エッジアイソレーション:短絡を防止するためのミクロンレベルのエッジトリミング タンデムセルモジュール:マルチマテリアル層処理専用のレーザーエッチングシステム 当社の統合された機器エコシステムにより、すべてのレーザー加工要件が満たされます。 • 層間のアライメント精度≤20μm • 熱影響部を5μm以下に制御 • 研究開発からギガワット規模の生産までをサポートするモジュラープラットフォーム
  • ロクセン のツールは、バリアント ペロブスカイト配合に対してどのような組成許容範囲をサポートしていますか?

    Locsenのレーザーシステムは、多様なペロブスカイト組成に優れた適応性を発揮します。• 事前ロードされたパラメータ: レーザーレシピライブラリ内の主流の配合(例: FAPbI₃、CsPbI₃)に最適化された設定により、オペレータは即座にアクセスできます。• 研究開発サポート: 新しい組成(例: Snベースのペロブスカイト)については、当社のチームが以下を提供します: 72時間以内にカスタム波長/フルエンス校正を実施します。<1% PCE degradation post-processing • Smart Compensation: On-board spectroscopy modules monitor reflectivity in real-time, automatically adjusting: Pulse duration (20-500ns) Beam profile (Top-hat/Gaussian) Energy density (0.5-3J/cm²) Technical Highlights: ▸ Tolerance for ±15% stoichiometric variation in Pb:Sn ratios ▸ Support for 2D/3D hybrid phase patterning ▸ Non-contact processing avoids cross-contamination

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